1. POSS(입체 실란)의 개발 배경
(1) 새로운 기능을 갖는 고분자 신소재 개발의 필요성이 증대되고 있습니다.
고분자 신소재에 대한 요구는 다양한 기능성 부여 뿐만 아니라 내열성, 투명성, 산화안정성 등의 고기능성이 더욱 요구되고 있습니다.
(2) 고분자 물질의 구조와 물성은 기본적으로 단량체의 구조에 의해 결정됨으로 그 물성 개선에는 한계가 있습니다.
-> 고분자에 유기, 무기 복합재료를 도입하여 고분자 소재의 가공성, 강인성, 경제적인 면에서 장점을 부여하고 무기물의 내열성, 산화안정성을 동시에 만족시킬 수 있습니다
2. 기존 하이브리드 유무기 복합 소재의 문제점
3. POSS(Polyhedral oligomeric silsesquioxane)란
(1)폴리실세스퀴옥산 중에서 cage 구조의 실세스퀴옥산 POSS라고 합니다.
(2)랜덤, 사다리형, cage 및 부분적이 cage 등의 다양한 구조를 가지고 있습니다.
(3)사다리 구조의 폴리실세스퀴옥산이 내열성이 우수하고 특히 500℃ 이상의 고온에서도 산화반응에 안정하다는 특성이 알려지면서 많은 연구가 진행되기 시작하였습니다. 이러한 실세스퀴옥산 고분자는 절연성과 기체투과성이 우수하여 감광제 보호막, 반도체 저유전박막, 가스분리막 등에 다양한 부분에 응용되기 시작했습니다.
4.POSS 물질의 우수한 특징 원리
Si가 케이지, 래더, 규빅 형태를 가질 때 우수한 물리, 화학, 과학적, 전기 특성을 뛰고 바깥 유기반응기가 유기물과 화학적 반응으로 고분자내 안정성이 우수한 특성을 보유하고 있습니다.
5. POSS 적용분야
이메일 : pdchance@naver.com
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